规格型号：47763539
频率：1.0~80.0MHZ
尺寸：1.6*1.2mm
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产品描述：River石英晶振,FCXO-07贴片晶体,普通有源晶振,有源石英晶振,无论是温补晶体也好,压控晶振也罢,产品均采用了,离子刻蚀调频技术,比目前一般使用的真空蒸镀方式调频,主要在产品参数有以下提升：1.微调后调整频率能控制在...

River石英晶振,FCXO-07贴片晶体,普通有源晶振,有源石英晶振,无论是温补晶体也好,压控晶振也罢,产品均采用了,离子刻蚀调频技术,比目前一般使用的真空蒸镀方式调频,主要在产品参数有以下提升：1.微调后调整频率能控制在±2ppm,一般只能保持在±5ppm；2.产品的激励功率相关性参数有大幅提升；3.产品的长期老化率可保证在±2ppm之内,小体积有源石英晶体振荡器,在生产时需要在完全净化车间,在密封的机器设备中测良,封装等技术1.防止外界气体进入组件体内受到污染和增加应力的产生；2.使组件在真空下电阻减小；3.气密性高.此技术为研发及生产超小型、超薄型石英晶体元器必须攻克的关键技术之一.

晶振参数	型号FCXO-07
频率范围	1.000MHZ~80.000MHZ
负载电容	5pf,6pF,7pF or special
频率偏差	±20ppm,±30ppm,±50ppm
工作温度	-20~+70℃
储存温度	-40~+85℃
电压电压	1.8V,2.5V,3.3V
激进功率	200μW Max
串联电阻（ESR）	100Ω Max

石英材料中的二氧化硅分子(SiO2) 在正常状态下, 其电偶极是互相平衡的电中性. 在(图二左)的二氧化硅是以二维空间的简化图形. 当我们在硅原子上方及氧原子下方分别给予正电场及负电场时, 空间系统为了维持电位平衡, 两个氧原子会相互排斥, 在氧原子下方形成一个感应正电场区域, 同时在硅原子上方产生感应负电场区域. 相反的情况, 当我们在硅原子上方及氧原子下方分别给予负电场及正电场时, 两个氧原子会相互靠近, 氧原子下方产生感应负电场,硅原子上方产生感应正电场. (图二). 然而, 氧原子的水平位置变化时, 邻近的另一个氧原子会相对的产生排斥或吸引的力量, 迫使氧原子回到原来的空间位置. 因此, 电场的力量与原子之间的力量会相互牵动, 电场的改变与水平方向的形变是形成交互作用状态. 这个交互作用会形成一个在石英材料耗能最小的振动状态, 祇要由电场持续给与能量, 石英材料就会与电场之间维持一个共振的频率. 这个压电效应下氧原子的振幅与电场强度及电场对二氧化硅的向量角度有相对应的关系.在实际的应用上, 电场是由镀在石英芯片上的金属电极产生, 电场与二氧化硅的向量角度则是由石英晶棒的切割角度来决定.

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